RO-EDI超純水設備在電子制作過程中的作用重要嗎？

RO-EDI純化水設備在電子制作全過程中的功效不能小視。電子器件、半導體材料、液晶顯示屏、太陽能發電工業化生產在制作過程中，通常必須 應用極為純粹的超純水系統。假如純凈水水體達不上生產工藝流程自來水的規定或是水體不穩定得話，會危害到事后加工工藝的解決實際效果和使用期限。

在光伏產業整流管生產制造中，如在其中滲入殘渣，便會危害電子器件的發送，從而危害整流管的變大特性及使用壽命，在顯象管和陰極射線生產制造中，其顯示屏內腔用噴漆法或離子交換法粘附一層瑩光化學物質，與其配置純凈水中含銅在8ppb之上，便會造成發亮掉色；鐵元素在50ppb之上便會使發亮掉色、發暗、閃爍并會導致汽泡、條跡、透光點等廢殘品。在黑與白顯象管顯示屏生產制造的12個工藝流程中，玻殼清理、沉積、潮濕、洗膜、管頸清理等5個工藝流程需應用純凈水，每生產制造一個晶體三極管需工業純水80kg。

液晶顯示屏的屏面需要純凈水清理和用純凈水配液，如純凈水中有金屬離子、微生物菌種、顆粒等殘渣，便會使液晶顯示屏電源電路產生常見故障，危害液晶顯示屏品質，造成 損毀、殘品。在晶體三極管、集成電路芯片生產制造中，純凈水關鍵用以清理單晶硅片，另有小量用以藥水配置，單晶硅片空氣氧化的水蒸氣源，一部分機器設備的冷卻循環水，配置電鍍工藝液等。集成電路芯片的產品品質及生產制造良品率關聯非常大。

水里的堿土金屬（K、Na等）會使絕緣層膜抗壓欠佳，重金屬超標（Au、Ag、Cu等）會使PN結抗壓減少，III族原素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特點惡變，V族素（P、As、Sb等）會使P型半導體特點惡變，水里病菌高溫炭化后的磷（約占灰份的20%~50%）會使P型單晶硅片上的部分地區轉變 為N型硅而造成 元器件特性受到影響。水里的顆粒物（包含病菌）如吸咐在單晶硅片表層，便會造成電路短路或特點下降。因而水的質量非常關鍵。RO-EDI純化水設備加工工藝，能夠做到超純水系統規范。